科创(chuang)(chuang)南方8月7日(ri)(ri)报道，近日(ri)(ri)，深圳(zhen)市(shi)龙图光罩(zhao)股(gu)份有限公司在上交所科创(chuang)(chuang)板(ban)挂牌(pai)上市(shi)。
龙图光罩发行价为18.5元(yuan)，是科创(chuang)板定价新规下首家发行定价环节适用剔(ti)除3%最高报价比例的科创(chuang)板个(ge)股。
此次公开发行3337.5万股(gu)，募资总额为6.17亿(yi)元。昨日的首日开盘价为41元，较发行价上涨了121.6%;首日收盘价为34.90元，首日市值达46.59亿元。
今日，该公司收盘价为31.30元，市值为41.8亿元。
成立于2010年的龙图光罩，主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内(nei)稀缺(que)的独立第三(san)方半导体掩模版(ban)厂商，掌握(wo)了130nm 及以上制程节(jie)点半导(dao)体掩模版生(sheng)产(chan)制造(zao)的关键技术。
半导体掩膜版是什么(me)？
掩膜版(ban)，也被称(cheng)为是光罩(zhao)、光掩版(ban)，是半导(dao)体制造过程中不可或缺的图形模版(ban)。就像传(chuan)统相机的“底片”一(yi)样，掩膜版(ban)承担着把(ba)设计图案转化成实体产品(pin)的关键步骤。
掩模版(ban)是上(shang)游芯片设(she)计公司与下游晶(jing)圆制造厂商(shang)的(de)(de)(de)中间桥梁。掩膜版(ban)上(shang)有(you)预(yu)先设(she)计好的(de)(de)(de)电路(lu)(lu)图案(an)，通过一(yi)系(xi)列精细的(de)(de)(de)曝光工艺，这些(xie)电路(lu)(lu)图案(an)就会被“投影”到下游制程的(de)(de)(de)材料上(shang)，从而实(shi)现产品的(de)(de)(de)批量化生(sheng)产。
很长一段时间来，美日厂商在全球第三方半导体掩膜版市场占据垄断地位。根据SEMI 数据，在全球半导体掩模版市场，晶圆厂自行配套的掩模版工厂规模占比 65%，独立第三方掩模厂商规模占比 35%，其中独立第三方半导体掩模版市场主要被美国 Photronics、日本(ben) Toppan 和日本(ben) DNP 三家(jia)公司所控制，三者(zhe)共占八成以上的市场规(gui)模。
龙图光罩正是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版生产商，而龙图光罩的成功上市，可以说是让半导体掩膜版的“国产替代(dai)”又向前迈进了一步，该公司也是目前A股市(shi)场(chang)上唯(wei)一(yi)一(yi)家(jia)半导体(ti)掩膜版(ban)收(shou)入占(zhan)比(bi)超9成的公司(si)。
随着下游新兴产业如新能源汽车、光伏发电、工业自动化等的发展，国内半导体掩膜版需求近年来大幅增加，这也使得龙图光罩在2021年至2023年，营业收入年均复合增长率达到38.56%，其净利润的年均复合增长率更是超过了40%。
回顾龙图光罩的上市历程，从2023年5月受理材料开始，其上市审核过程大概用了1年3个月，相比创业(ye)板(ban)、主板(ban)或(huo)科创板(ban)的绝大多数企业(ye)耗(hao)时，已是非(fei)常高效。
通过本次上市，龙图光罩将持续加大技术创新投入，本次拟募集资金6.63亿元，将直(zhi)接用(yong)于(yu)电子束(shu)光刻(ke)机等一系(xi)列高端(duan)设备(bei)购置及产(chan)线建设，推(tui)动(dong)90nm、65nm及更(geng)高制(zhi)程(cheng)节(jie)点半(ban)导体掩(yan)模版的技术突破，补强(qiang)产(chan)业发(fa)展短板(ban)，提(ti)升自(zi)主可(ke)控水平。
一、业绩情况亮眼，营收年均复合增长率近40%
据招股书显示，龙图光罩主营业务为半导体(ti)掩模版的(de)研发、生(sheng)产和(he)销(xiao)售。
2021年—2023年，龙图光罩的营业收入分别为1.13亿(yi)元(yuan)、1.61亿(yi)元(yuan)和2.18亿(yi)元(yuan)，年均复合增长率为38.56%。而半导体掩模版则是龙图光罩的主要收入来源，报告期内来自半导体掩模版的收入分别为8672.51万元(yuan)(yuan)、1.38亿(yi)元(yuan)(yuan)和1.98亿(yi)元(yuan)(yuan)，分别占主营业务收入的76.28%、85.44%和91.1３%。
尽管龙图光罩2023年营收规模为2.18亿，但毛利率保持60%左右，净利率接近40%。
在研发投入方面，龙图光罩三年的研发支出分别为931.80万(wan)(wan)元、1533.31万(wan)(wan)元和2017.59万(wan)(wan)元，占营业收入的比例分别为8.20%、9.49%和9.24%。同时，公司研发费用的年均复合增长率达到了47.15%，与(yu)同行(xing)业上市公司相比，其研(yan)发(fa)(fa)费用率略高。研(yan)发(fa)(fa)中(zhong)心的(de)人才队(dui)伍也从2021年末的(de)26人增长至(zhi) 2023 年末的(de)42人。
在销售费用方面，费用率呈现一定的下降趋势，2021年至2023年占比分别为3.92%、3.07%、2.87%，这与公司重点开发和加深(shen)与(yu)下游半(ban)导体行业大客户的合(he)作有关，大客户(hu)的收入规(gui)模(mo)和占比提升，带来了收入集中度的提升，进(jin)而销(xiao)售费用(yong)率(lv)下降(jiang)。
2021年到2023年，龙图光罩的负债分别为7009.67万(wan)元(yuan)、4916.19万(wan)元(yuan)、7834.29万(wan)元(yuan)，资产负债率分别为41.95%、9.57%和12.40%。2022 年度，公司资产负债率下降幅度较大，主要与该公司进行股权融资(zi)，引(yin)入外部股东有关。总的来(lai)说，公司资产负债率(lv)、流动(dong)比(bi)率(lv)、速动(dong)比(bi)率(lv)均优于同行业可比(bi)公司，公司偿债能力良好。
二 以半导体掩膜版为核心，持续提升工艺节点
龙图光罩紧跟国内特色工艺半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代，半导体掩模版对应下游半导体产品的工艺节点从 1μm 逐步提升至 130nm，产品广泛应用于功率半导体、MEMS 传(chuan)感器、IC 封装(zhuang)、模拟 IC 等特色(se)工(gong)艺(yi)半导体(ti)领域，终(zhong)端(duan)应用涵盖新能源、光伏发电(dian)、汽车电(dian)子、工(gong)业控制、无(wu)线通信(xin)、物联(lian)网、消费电(dian)子等场景。
成(cheng)立十年(nian)以(yi)来，龙图光(guang)罩主要(yao)产品的发(fa)展演变情况(kuang)可以(yi)分(fen)为以(yi)下三个阶段：
根据基板材质的不同，龙图光照的掩膜版产品可以分为两类，石英(ying)掩(yan)膜版和苏打掩膜(mo)版。从2021年到2023年，石英掩膜版收入分别为6038.85万元(yuan)、1.12亿(yi)元(yuan)、1.72亿(yi)元(yuan)，占比从53.12%、69.59%上升到78.79%；苏打掩膜版的收入分别为5330.41万(wan)元、4912.5万(wan)元6、4630.21万(wan)元，占比从46.88%、30.41%下降至21.21%。
以下游应用领域来划分，龙图光罩的主营业务收入则可以分为三大方面，分别是半(ban)导体掩膜版、光学器件(jian)及其他领(ling)域(yu)。
三年里，半导体掩膜版带来的营业收入分别为8672.51万元(yuan)(yuan)、1.38亿元(yuan)(yuan)、1.99亿元(yuan)(yuan)，占比从76.28%逐渐攀升至85.44%、91.13%。
三、形成三大核心技术体系，打造专有技术壁垒
半导体掩模版行业高度依赖专有技术，具有鲜明的“Know-How” 特点（指根(gen)据(ju)多年经验与实践得来(lai)的知(zhi)识结(jie)晶，一般在企(qi)业(ye)内部(bu)没(mei)有专(zhuan)利保护，或(huo)者(zhe)和专(zhuan)利相辅(fu)相成，表现为技术(shu)诀窍、专(zhuan)业(ye)知(zhi)识、独(du)家配方，属于无形资产的商业(ye)秘密）。
目前，龙图光罩形成了了涵盖 CAM 版图处理、光刻及检测的(de)三大核心技术体(ti)系，解决了高精度掩模(mo)版制(zhi)(zhi)作(zuo)过程(cheng)中对(dui)于精度和缺陷(xian)控制(zhi)(zhi)的(de)难题(ti)，在制(zhi)(zhi)程(cheng)能力、精度控制(zhi)(zhi)及缺陷(xian)控制(zhi)(zhi)方面达到国内较(jiao)为领先的(de)水(shui)平(ping)。
为了解决下(xia)晶圆曝光(guang)存在图形(xing)失真(zhen)现象，提高(gao)晶圆曝光(guang)的分辨率与(yu)精度(du)，就(jiu)需要要在CAM 环节对(dui)掩模(mo)版图形(xing)进行二(er)次(ci)加(jia)工（OPC），通过图形(xing)补偿来抵消图形(xing)偏差。
龙图光罩通过大量实验与实践数据，建立了自身特有的基于规则的OPC数据(ju)库，能够对各(ge)种设计(ji)版图(tu)进(jin)行 快(kuai)速、准确的自(zi)动化OPC补偿处(chu)理(li)，实(shi)现(xian)了制程(cheng)与精度的显著提升。
在光刻环节，龙图光罩司自研了一套高(gao)精度制程管控系统来(lai)满足光(guang)刻(ke)(ke)机等精(jing)密设备(bei)的苛刻(ke)(ke)环境需求(qiu)，通过(guo)对温度(du)、湿度(du)、气流扰动、微振动等制程参(can)数进行实时监(jian)控与调(diao)节，有效地提高了掩模产品(pin)的位(wei)置精(jing)度(du)、套刻(ke)(ke)精(jing)度(du)，降低了产品(pin)的缺陷(xian)水平。
同时，该公司根据自研软件算法及多年的掩模光刻经验，通过精确控制曝光光源的输出功率、曝光时间、聚焦深度、束斑形状等参数，对曝光环节进行反向补偿与动态优化，实现(xian)光刻机能(neng)量(liang)输出(chu)的(de)精(jing)细化控制，显著提升产品CD精(jing)度(du)。
掩模版上的各类缺陷通常极为微观，在检测环节，龙图光罩能够精准检测出掩模版上纳米级缺陷，并自研了一套缺陷修补与异物去除技术(shu)，利(li)用激光物理作用与蚀刻液(ye)化学反应(ying)相结合(he)的(de)方式，有效地消除(chu)了(le)激光修复(fu)后所(suo)产生修复(fu)印痕，避(bi)免 了(le)因缺陷修复(fu)所(suo)带来的(de)二次损伤。
截止2023年底，龙图光照已取得43项(xiang)专利(li)，其中发明专利16项，实用新型专利27项。另外，还有36项(xiang)计算(suan)机软(ruan)件著(zhu)作(zuo)权。
龙图光罩的多项专有技术其实并不易于以专(zhuan)利形式保护(hu)，不过这些技(ji)术专(zhuan)有技(ji)术形成了它(ta)享有的技(ji)术红(hong)利，同时(shi)也构成了半导体(ti)掩模版(ban)较高的行业壁(bi)垒。
四、较强上下游匹配能力，客户集中度稳定
独立的(de)(de)第三方(fang)半(ban)导(dao)体掩膜版生产商，需要根据(ju)上(shang)游芯(xin)片设(she)(she)计公司(si)提供的(de)(de)设(she)(she)计版图，及下(xia)游晶圆制造厂商提供的(de)(de)制作(zuo)工艺要求，设(she)(she)计并制作(zuo)出同时满足芯(xin)片设(she)(she)计公司(si)和晶圆制造厂要求的(de)(de)、用于晶圆加工的(de)(de)半(ban)导(dao)体掩模版。
在不断追逐行业技术进步的过程中，龙图光罩不仅形成了大量的专有技术，也具备了较强的(de)上下游(you)匹配能力。
龙图光罩上游原材料主要是石英(ying)基板、苏打基板以(yi)及(ji)光学(xue)膜，供应商主要是环球国际(ji)、璩玖(jiu)科技、韶光芯材、微择(ze)科技、S&STECHCorp等企业。
龙图光罩的客户，一方面涵盖芯片(pian)制造(zao)厂(chang)商(shang)、MEMS 传感 器厂(chang)商(shang)、先(xian)进封装厂(chang)商(shang)、芯片(pian)设计(ji)公司，如(ru)中(zhong)芯集(ji)成、士兰(lan)微(wei)(wei)、积塔半(ban)(ban)导(dao)体(ti)、华虹半(ban)(ban)导(dao)体(ti)、新唐科(ke)技、比亚迪半(ban)(ban)导(dao)体(ti)、立昂微(wei)(wei)、燕东微(wei)(wei)、粤芯半(ban)(ban)导(dao)体(ti)、长飞先(xian)进(jin)、扬杰科(ke)技、英集(ji)芯、芯朋微(wei)(wei)、斯达半(ban)(ban)导(dao)体(ti)等。
另一方面，也涉及进行基础技术研究的知名高校(xiao)及科研院所(suo)，如(ru)清(qing)华大学(xue)(xue)(xue)、上(shang)海交通(tong)大学(xue)(xue)(xue)、复旦大学(xue)(xue)(xue)、浙江大学(xue)(xue)(xue)等。
2021年到2023年，龙图光(guang)罩(zhao)前五大(da)(da)客户销售集中度较为稳定(ding)，均(jun)为工艺半导体(ti)行业(ye)内的大(da)(da)客户。
五、三人为实际控制人，无控股股东
柯汉(han)奇(qi)、叶小(xiao)龙、张道(dao)谷分别直接持有龙图光罩 26.33%、26.33%、19.56%股权，柯汉奇通过深圳市奇龙谷投资合伙企业（有限合伙）控制公司3.76%股权，三人合计控制龙图光罩75.99%股权，上述三方为公司的共同实际控制人。公司无控股股东。
另外(wai)，南海成长(zhang)、惠友豪嘉、华虹(hong)虹(hong)芯(xin)、瑞扬合伙、士兰控股、银杏谷壹号为外(wai)部机构股东。
龙图光罩董(dong)事(shi)会由5名成员组成，分别是董(dong)事(shi)长柯汉奇、董(dong)事(shi)兼(jian)总经理叶小龙、董(dong)事(shi)张道(dao)谷，以及两(liang)名独立(li)董(dong)事(shi)袁(yuan)振超(chao)、安丰伟(wei)。
柯(ke)汉奇是(shi)60后，固(gu)体物理专业(ye)研究生(sheng)。他曾在深圳(zhen)市先科企(qi)业(ye)集团当过工程师(shi)、部门经理，还在中国南玻集团股份有限公(gong)司担任事业(ye)部总(zong)裁、集团副总(zong)裁，2018年2月至今柯(ke)汉奇任职于龙图光罩。
叶小龙，环境设计专业本科，他曾(ceng)在深(shen)圳清溢光电股(gu)份有限公司从市场部经(jing)理(li)担任副(fu)总(zong)经(jing)理(li)，2010年4月至今(jin)在龙图光罩任职(zhi)。
张道谷，机械制造工艺及设(she)备(bei)专业本(ben)科(ke)。他曾担任湖北省(sheng)黄冈铝业公司(si)的副厂(chang)长(zhang)，还当(dang)过深(shen)圳(zhen)美科(ke)电脑设(she)计有限公司(si)总经理，2018 年2月至今在龙图光罩任职。
结语：下游创新推动半导体需求增长，国产替代步伐不断加快
近年来，随着新能源汽(qi)车、光伏 自动(dong)驾驶、新一代(dai)移(yi)动(dong)通(tong)信、人工智能等新技术的不(bu)断成熟，终端产品更新迭代(dai)速(su)度加快，推动(dong)了半导体行业的迅(xun)速(su)发(fa)展，也(ye)为半导体掩模版创造了大(da)量的市(shi)场需求(qiu)。
曾经(jing)国(guo)外厂(chang)商(shang)在半(ban)导体(ti)(ti)掩(yan)膜版(ban)(ban)上占据垄断地位(wei)，而随着龙图光(guang)罩这样(yang)的独立第三方(fang)半(ban)导体(ti)(ti)掩(yan)模(mo)版(ban)(ban)厂(chang)商(shang)崛起(qi)，也将有望(wang)加快国(guo)产(chan)替代的步伐，填补我国(guo)高端半(ban)导体(ti)(ti)掩(yan)模(mo)版(ban)(ban)领域的空(kong)白。
